PVD-Beschichtungsmaterial

• Kupfer-Nickel (CuNi) Sputtertarget

  Kupfer und Nickel liegen im Periodensystem der Elemente nebeneinander, mit den Ordnungszahlen 29 und 28 und den Atomgewichten 63,54 und 68,71. Diese beiden Elemente sind eng verwandt und sowohl im...

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• Kupfer-Nickel-Titan (CuNiTi) Sputtertarget

  Das Kupfer-Nickel-Titan-Legierungsziel (CuNiTi) ist hellgelb und hat im Allgemeinen eine rechteckige Form. Wir können es auch gemäß den Zeichnungen und Zielinformationen der Kunden anpassen....

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• Sputtertarget aus Eisen-Chrom (FeCr)

  Das Sputtertarget aus Eisen-Chrom-Legierung (FeCr) hat eine grauschwarze Farbe. Wir produzieren Sputtertargets aus Eisen-Chrom-Legierung mit unterschiedlichem Eisen- und Chromgehalt im...

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• Sputtertarget aus Aluminium-Titan (AlTi)

  Sputtertargets aus Aluminium-Titan-Legierungen (AlTi) werden mithilfe der HIP-Technologie hergestellt und häufig für die Werkzeugbeschichtung und dekorative Beschichtung eingesetzt. Im Vergleich...

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• Eisen-Mangan (FeMn) Sputtertarget

  Das Sputtertarget aus Eisenmanganlegierung (FeMn) hat eine dunkelbraune Farbe und besteht aus einer Mischung von Eisen- und Manganmaterialien. Seine Verunreinigungselemente sind hauptsächlich...

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• Sputtertarget aus Nickel-Chrom (NiCr)

  Nickel-Chrom (NiCr)-Sputtertargets werden zum Aufbringen eines Widerstandsfilms aus einer Nickel-Chrom-Legierung mittels PVD-Technologie verwendet. Der Nickel-Chrom-Film weist einen hohen...

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• Sputtertarget aus Nickel-Kupfer (NiCu)

  Der Herstellungsprozess des Nickel-Kupfer-Legierungstargets besteht darin, die metallischen Rohstoffe zu Legierungsbarren zu schmelzen und diese Barren dann durch den Formungsprozess plastisch zu...

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• Sputtertarget aus Nickel-Eisen (NiFe)

  Der Schmelzpunkt von Nickel-Eisen NiFe liegt bei 1430-1480 Grad und die Dichte beträgt zwischen 8.1-8.7g/cm3. Nickel-Eisen-Legierung ist ein niederfrequentes weichmagnetisches Material mit...

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• Nickel-Vanadium (NiV) Sputtertarget

  Das hochreine Nickel-Vanadium-Legierungstarget hat einen silberweißen metallischen Glanz, eine Dichte von 6,11 g/cm3, einen Schmelzpunkt von 1910 Grad und einen Siedepunkt von 3407 Grad. Es ist...

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• Sputtertarget aus Kobalt-Chrom (CoCr)

  Das Kobalt-Chrom (CoCr)-Legierungsziel hat eine silberweiße Farbe und ist eine Legierung mit Kobalt und Chrom als Hauptbestandteilen. Seit 1929 wird es als Material für Zahnrestaurationen...

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• Sputtertarget aus Kobalt-Eisen (CoFe)

  Ferrokobaltlegierungen mit etwa 50 % Kobalt sind weichmagnetische Werkstoffe. Um die Bearbeitungsleistung zu verbessern, werden üblicherweise 1,4 bis 1,8 % Vanadium (V) hinzugefügt, weshalb sie...

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• Sputtertarget aus Kobalt-Eisen-Bor (CoFeB)

  Die Entwicklung dünner CoFeB-Schichten hat in den letzten Jahrzehnten Forschung und industrielle Anwendungen vorangetrieben, wobei der magnetische Direktzugriffsspeicher (MRAM) das bekannteste...

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