Sputtertargets für Legierungen
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ZRTI Sputtering TargetZRTI-Sputterziel werden hauptsächlich in der elektronischen Informationsindustrie, in Glasbeschichtungsfeld, bei korrosionsbeständigen Materialien mit hohen Temperaturen, hochwertigen dekorativen...Mehr
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ZRTI -SputterzieleZRTI -Sputterziele sind eines der häufig verwendeten Metall -Sputter -Ziele, die in planare Ziele, besprühte Ziele und rotierende Ziele usw. unterteilt werden können und eine wichtige Rolle in der...Mehr
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Zirkoniumtitan -Zrti -SputterzielZirkonium-Titan-ZRTI-Sputterziel werden in der Branche in der Branche in der Branchen-Vakuumbeschichtung oder bei Magnetron-Sputterspotten häufig eingesetzt und können je nach Anforderungen als...Mehr
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Titan -Silizium -SputterzielTitan -Silizium -Sputterziel haben die Eigenschaften einer hohen mechanischen Festigkeit, einer guten Verschleißfestigkeit, einer starken Korrosionsbeständigkeit und einer guten Auswirkung....Mehr
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Cr-ti leges spottering ZielHochwertige Dünnschichtbeschichtungen, die durch CR-Ti-Legierungs-Sputtern-Zielspotten gesputtert werden, werden nicht nur als dekorative Beschichtungen für Uhren, Elektronik, Kontrollkomponenten...Mehr
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Chrom -Titan -SputterzielTitanchromlegierungen werden häufig im Industriegebiet verwendet, hauptsächlich zur Herstellung von Kondensatoren in Kraftwerken, Kompressorteilen für Motoren, Elektroden in der Elektrolysebranche...Mehr
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Chrom -TitanlegierzielDas Sputterziel der Chromtitanlegierung hat die Eigenschaften einer starken Aufprallresistenz, einer hohen Korrosionsbeständigkeit, einer hohen Beschichtungsqualität, einer langen Lebensdauer und...Mehr
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Wolfram-Titan (WTi) SputtertargetWolfram-Titan-Sputtertargets werden mithilfe der Pulvermetallurgie-Technologie hergestellt und finden breite Anwendung für Halbleiter- und Dünnschicht-Solarzellen.Mehr
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Aluminium-Neodym (AlNd) SputtertargetAluminium-Neodym-Legierung ist ein häufig verwendetes Magnetron-Sputtertarget. Aluminium hat einen Schmelzpunkt von 66 °C, eine Dichte von 2,7 und eine Wärmeleitfähigkeit von 7,53, während Neodym...Mehr
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Sputtertarget aus Aluminiumkupfer (AlCu)Aluminium-Kupfer-Sputtertargets eignen sich aufgrund ihrer hohen Härte, Zugfestigkeit und ihres geringen Gewichts perfekt für eine Reihe von Branchen und Anwendungen. Sie haben normalerweise einen...Mehr
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Aluminium-Scandium (AlSc) SputtertargetScandium hat eine gute dispersionsverstärkende Wirkung auf Aluminium. Es ist eine stabile, nicht rekristallisierende Struktur während der Warmbearbeitung oder des Glühens. Einige Legierungen sind...Mehr
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Aluminium-Silizium (AlSi) SputtertargetDie Targets werden durch Mischen von Aluminium- und Siliziumpulvern und anschließendes Verdichten bis zur vollen Dichte hergestellt. Die so verdichteten Materialien werden optional gesintert und...Mehr
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