Sputtertargets für Legierungen

  • ZRTI Sputtering Target
    ZRTI-Sputterziel werden hauptsächlich in der elektronischen Informationsindustrie, in Glasbeschichtungsfeld, bei korrosionsbeständigen Materialien mit hohen Temperaturen, hochwertigen dekorativen...
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  • ZRTI -Sputterziele
    ZRTI -Sputterziele sind eines der häufig verwendeten Metall -Sputter -Ziele, die in planare Ziele, besprühte Ziele und rotierende Ziele usw. unterteilt werden können und eine wichtige Rolle in der...
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  • Zirkoniumtitan -Zrti -Sputterziel
    Zirkonium-Titan-ZRTI-Sputterziel werden in der Branche in der Branche in der Branchen-Vakuumbeschichtung oder bei Magnetron-Sputterspotten häufig eingesetzt und können je nach Anforderungen als...
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  • Titan -Silizium -Sputterziel
    Titan -Silizium -Sputterziel haben die Eigenschaften einer hohen mechanischen Festigkeit, einer guten Verschleißfestigkeit, einer starken Korrosionsbeständigkeit und einer guten Auswirkung....
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  • Cr-ti leges spottering Ziel
    Hochwertige Dünnschichtbeschichtungen, die durch CR-Ti-Legierungs-Sputtern-Zielspotten gesputtert werden, werden nicht nur als dekorative Beschichtungen für Uhren, Elektronik, Kontrollkomponenten...
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  • Chrom -Titan -Sputterziel
    Titanchromlegierungen werden häufig im Industriegebiet verwendet, hauptsächlich zur Herstellung von Kondensatoren in Kraftwerken, Kompressorteilen für Motoren, Elektroden in der Elektrolysebranche...
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  • Chrom -Titanlegierziel
    Das Sputterziel der Chromtitanlegierung hat die Eigenschaften einer starken Aufprallresistenz, einer hohen Korrosionsbeständigkeit, einer hohen Beschichtungsqualität, einer langen Lebensdauer und...
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  • Wolfram-Titan (WTi) Sputtertarget
    Wolfram-Titan-Sputtertargets werden mithilfe der Pulvermetallurgie-Technologie hergestellt und finden breite Anwendung für Halbleiter- und Dünnschicht-Solarzellen.
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  • Aluminium-Neodym (AlNd) Sputtertarget
    Aluminium-Neodym-Legierung ist ein häufig verwendetes Magnetron-Sputtertarget. Aluminium hat einen Schmelzpunkt von 66 °C, eine Dichte von 2,7 und eine Wärmeleitfähigkeit von 7,53, während Neodym...
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  • Sputtertarget aus Aluminiumkupfer (AlCu)
    Aluminium-Kupfer-Sputtertargets eignen sich aufgrund ihrer hohen Härte, Zugfestigkeit und ihres geringen Gewichts perfekt für eine Reihe von Branchen und Anwendungen. Sie haben normalerweise einen...
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  • Aluminium-Scandium (AlSc) Sputtertarget
    Scandium hat eine gute dispersionsverstärkende Wirkung auf Aluminium. Es ist eine stabile, nicht rekristallisierende Struktur während der Warmbearbeitung oder des Glühens. Einige Legierungen sind...
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  • Aluminium-Silizium (AlSi) Sputtertarget
    Die Targets werden durch Mischen von Aluminium- und Siliziumpulvern und anschließendes Verdichten bis zur vollen Dichte hergestellt. Die so verdichteten Materialien werden optional gesintert und...
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