Keramische Sputtertargets

• Zinnoxid (SnO2) Sputtertarget

  Zinnoxidtargets (SnO2) sind ein wichtiges anorganisches nichtmetallisches Material. Aufgrund seiner einzigartigen physikalischen und chemischen Eigenschaften spielt es in vielen Hightech-Bereichen...

  Mehr
• Sputtertarget aus Tantaloxid (Ta2O5)

  Tantaloxid-Sputtertargets können in Halbleitern, bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD), der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) und in optischen Anwendungen eingesetzt werden. Wir...

  Mehr
• Sputtertarget aus Titanoxid (TiO2)

  Titandioxid (TiO2) ist das am häufigsten verwendete Weißpigment, beispielsweise in Farben. Es hat eine hohe Helligkeit und einen sehr hohen Brechungsindex (2,609 für Rutil).

  Mehr
• Zinkoxid (ZnO) Sputtertarget

  Sputtertarget aus Zinkoxid (ZnO) für die physikalische Gasphasenabscheidung mittels Magnetronsputtern. Verschiedene Durchmesser, Dicken und Reinheiten erhältlich, passend für alle großen...

  Mehr
• Magnesiumfluorid (MgF2) Sputtertarget

  Magnesiumfluorid ist ein weißes, kristallines Salz und über einen weiten Wellenlängenbereich transparent. Es wird kommerziell in der Optik verwendet, die auch in Weltraumteleskopen zum Einsatz...

  Mehr
• Lithium-Kobaltoxid (LiCoO2) Sputtertarget

  Das Lithium-Kobaltoxid ist eine geschichtete Struktur, die einen zweidimensionalen Tunnel für die Migration von Lithium-Ionen bietet. Das LiCoO2-Sputtertarget ist aufgrund seiner überlegenen...

  Mehr
• Sputtertarget aus Molybdänoxid (MoO3)

  Molybdänoxid-Sputtertargets können in Halbleitern, bei chemischer Gasphasenabscheidung (CVD), physikalischer Gasphasenabscheidung (PVD), Displays und optischen Anwendungen eingesetzt werden. Wir...

  Mehr
• Magnesiumoxid (MgO) Sputtertarget

  Magnesiumoxid in Sputtertargets wird vor allem in der Hochgeschwindigkeitsfilmbildung, in der Mikroelektronik- und Photovoltaikindustrie, in speziellen Herstellungsprozessen und in umfangreichen...

  Mehr
• Sputtertarget aus Molybdändisulfid (MoS2)

  MoSi2 hat eine tetragonale Struktur. Es ist eine Zwischenphase mit dem höchsten Siliziumgehalt im binären Mo-Si-Legierungssystem. Es ist eine intermetallische Dalton-Verbindung mit fester...

  Mehr
• Sputtertarget aus Nioboxid (Nb2O5)

  Unsere Nioboxid-Targets werden mithilfe moderner Vakuum-Heißpress-, Heißisostatpress-, Kaltpresssinter- und thermischer Spritzverfahren hergestellt. Zu unseren Produkten gehören rechteckige...

  Mehr
• Nickeloxid (NiO) Sputtertarget

  NiO-Target ist ein Material, das in Dünnschichtwachstumstechnologien wie physikalischer Gasphasenabscheidung (PVD) und chemischer Gasphasenabscheidung (CVD) verwendet wird. Diese Technologien...

  Mehr
• Sputtertarget aus Siliziumkarbid (SiC)

  In diesem Abschnitt werden die grundlegenden Merkmale von Siliziumkarbid-Targets im Detail erörtert, von ihren chemischen und physikalischen Eigenschaften über die Herstellungsmethoden bis hin zu...

  Mehr