Magnesiumoxid (MgO) Sputtertarget

Magnesiumoxid in Sputtertargets wird vor allem in der Hochgeschwindigkeitsfilmbildung, in der Mikroelektronik- und Photovoltaikindustrie, in speziellen Herstellungsprozessen und in umfangreichen Beschichtungsanwendungen eingesetzt. Diese Anwendungen profitieren von den physikalischen und chemischen Eigenschaften von Magnesiumoxid selbst.

Die Anwendung von Magnesiumoxid (MgO) in Sputtertargets spiegelt sich hauptsächlich in folgenden Aspekten wider:

Hochgeschwindigkeitsfilmbildung: Magnesiumoxid-Sputtertargets verwenden MgO und leitfähige Substanzen als Hauptkomponenten. Diese spezielle Zusammensetzung ermöglicht die Ausrichtung des MgO-Films, wenn er durch Gleichstromsputtern mit MgO gebildet wird, wodurch bei der Bildung des MgO-Films eine Hochgeschwindigkeitsfilmbildung erreicht wird.

Anwendung in der Mikroelektronik- und Photovoltaikindustrie: Mit der Entwicklung der Mikroelektronik- und Photovoltaikindustrie werden hochreine Magnesiumoxid-Targets häufig in elektronischen Produkten und Photovoltaikbeschichtungen verwendet. Seine hohe Reinheit verringert die durch Verunreinigungen verursachten Störungen und verbessert die Produktstabilität und Lebensdauer.

Herstellungsverfahren: Im Herstellungsverfahren für Hochleistungs-Oxidkeramik-Ziele ist Magnesiumoxid eines der üblichen Sputterziele. Die Oxidaufschlämmung wird durch Vakuumkugelmahlen, anschließendes Aufschlämmungsformen und Sinterverfahren erhalten. So kann ein hochdichtes, großformatiges Magnesiumoxid-Sputterziel erhalten werden.

Beschichtungsanwendung: Die Sputter-Dünnschichtbeschichtung von Magnesiumoxid-Sputtertargets wird häufig in Branchen wie Flüssigkristallanzeigen, Touchscreens, Dünnschicht-Solarzellen und Leuchtdioden eingesetzt. Die Anwendung dieser Beschichtungen profitiert vom hohen Schmelzpunkt, der hervorragenden Isolierung, Hitzebeständigkeit, Antioxidations- und Korrosionseigenschaften von Magnesiumoxid.

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