Produktbeschreibung
Wolfram-Titan-Sputtertargets werden mithilfe der Pulvermetallurgie-Technologie hergestellt und finden breite Anwendung für Halbleiter- und Dünnschicht-Solarzellen.
Bei Halbleiteranwendungen wird ein WTi10wt%-Dünnfilm als Diffusionsbarriere und Haftschicht verwendet, um die Metallisierungsschichten vom Halbleiter zu trennen, beispielsweise Aluminium von Silizium oder Kupfer von Silizium. Dadurch kann die Funktion des Halbleiters in Mikrochips erheblich verbessert werden.
Bei Dünnschicht-Solarzellen wird eine 10-Gew.-%-WTi-Dünnschicht auch als Sperrschicht verwendet, um die Diffusion von Eisenatomen im Stahlsubstrat zur Molybdän-Rückkontaktseite und zum CIGS-Halbleiter zu verhindern. Wolfram-Titan-Targets werden auch für die LED- und Werkzeugbeschichtung verwendet.
Unsere Fabrik kann WTi 90/10 Gew.-%, WTi 85/15 Gew.-%-Ziele produzieren, und Ziele mit spezieller Zusammensetzung können individuell angepasst werden, die tatsächliche Dichte der Ziele liegt bei > 99 %.
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Artikel |
Wolfram-Titan-Sputtertarget |
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Verfügbare Reinheit |
99,9 % min., wie Sie es wünschen |
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Verfügbare Form |
Rechteckig, rund, rotierend, Pellets, Barren, gemäß Ihrer Anfrage |
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Größe |
Verhandelbar |
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Technologie |
Schmelzen |
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Anwendung |
Vakuumbeschichtung, Prozess, Dekoration, LED, Semi, |
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Ähnliche Produkte |
WNiFe, WTa, Mo, Ta, Nb, V, Zr, Hf, Ti, Ni, Cu usw. |
Produktionsprozess: Schmelzen, Laden und Werkzeuggalvanisieren.
1. Reinheit: 99,9 % min.,
2. Größe: Abmessungen werden nach Kundenwunsch hergestellt
Anwendung: Es wird hauptsächlich in der Vakuumbeschichtung, Oberflächenbehandlung, Hartbeschichtung, Bauglasbeschichtung, Flachbildschirmbeschichtung, Solarenergiebeschichtung, optischen Beschichtung und anderen Bereichen verwendet.
Beliebte label: Wolfram-Titan (WTI) Sputtertarget, China Wolfram-Titan (WTI) Sputtertarget Lieferanten, Fabrik
