Sputtertarget aus Aluminium-Titan (AlTi)

Sputtertargets aus Aluminium-Titan-Legierungen (AlTi) werden mithilfe der HIP-Technologie hergestellt und häufig für die Werkzeugbeschichtung und dekorative Beschichtung eingesetzt. Im Vergleich zur Schmelztechnologie haben mithilfe der HIP-Technologie hergestellte TiAl-Targets eine gleichmäßigere Mikroinnenstruktur sowie eine kleinere Korngröße und sind für verschiedene Magnetron-Sputtermaschinen und Ionenplattierungsmaschinen geeignet.

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Produktbeschreibung

Sputtertargets aus Aluminium-Titan-Legierungen (AlTi) werden mit HIP-Technologie hergestellt und häufig für Werkzeugbeschichtungen und dekorative Beschichtungen verwendet. Im Vergleich zur Schmelztechnologie haben mit HIP-Technologie hergestellte TiAl-Targets eine gleichmäßigere Mikroinnenstruktur, kleinere Körnchen und sind für verschiedene Magnetron-Sputtermaschinen und Ionenplattierungsmaschinen geeignet. Der Endbenutzer kann während des PVD-Prozesses konstante Erosionsraten sowie eine hochreine und homogene Dünnschichtbeschichtung erzielen.

Die mit AlTi-Dünnschichten beschichteten Werkzeuge weisen höhere Vorschubgeschwindigkeiten, eine bessere Schnittleistung und längere Standzeiten auf und es lassen sich problemlos höhere Zerspanungsleistungen erzielen.

Aluminium-Titan-Sputtertargets und Lichtbogenkathoden werden auch für dekorative Beschichtungen verwendet, um goldbraune und bräunlich-schwarze Farbfilme zu erhalten. Der Endverbraucher kann eine gute Härte, hohe Helligkeit sowie korrosions- und oxidationsbeständige Farbe erzielen, ohne dass sie sich über einen sehr langen Zeitraum verfärbt. Unsere Targets wurden bereits von vielen Endverbrauchern qualifiziert, darunter Hersteller von Uhren, Sanitärartikeln, Autospiegeln usw.

Wir haben AlTi25/75at%, AlTi30/70at%, AlTi33/67at%, AlTi40/60at%, AlTi50/50at%,

AlTi70/30at% Targets und Kathoden für die dekorative Beschichtung und Werkzeugbeschichtung. Durch die Flexibilität unseres Produktionsprozesses kann die Mikrostruktur unserer Beschichtungsmaterialien gezielt an den gewünschten Effekt angepasst werden. Bei gleichmäßig ausgerichteten Körnern des Sputtertargets profitiert der Anwender von konstanten Abtragsraten und homogenen Schichten.

Name	AlTi-Legierungstarget
Material	Aluminium Titan Legierung
Reinheit	>5N >99.9999.8
Größe	Individuell
Farbe	Silber
Form	Individuell
Oberfläche	Polierte Oberfläche; Ra kleiner oder gleich 1,6 μm
Dichte	≈2,72 g/cm³ (basierend auf dem Verhältnis von Titan zu Aluminium)
Anwendung	Wird für integrierte Schaltkreise, PVD-Filmbeschichtung, Vakuumbeschichtung usw. verwendet.