Sputtertarget aus Nickel-Kupfer (NiCu)
Sputtertarget aus Nickel-Kupfer (NiCu)

Sputtertarget aus Nickel-Kupfer (NiCu)

Der Herstellungsprozess des Nickel-Kupfer-Legierungstargets besteht darin, die metallischen Rohstoffe zu Legierungsbarren zu schmelzen und diese Barren dann durch den Formungsprozess plastisch zu verformen, um die vom Kunden gewünschte Form und Größe zu erreichen.
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Produktbeschreibung

 

Das Sputtertarget aus einer Nickel-Kupfer-Legierung (NiCu) ist silberweiß mit metallischem Glanz.

Verfahren zur Herstellung eines Sputtertargets aus einer Nickel-Kupfer-Legierung

Der Herstellungsprozess des Nickel-Kupfer-Legierungstargets besteht darin, die metallischen Rohstoffe zu Legierungsbarren zu schmelzen und die Barren dann durch den Formungsprozess plastisch zu formen, um die vom Kunden gewünschte Form und Größe zu erreichen.

 

Anwendungsbereich des Sputtertargets aus Nickel-Kupfer-Legierung

 

Es wird häufig in integrierten Halbleiterschaltungen (VLSI), optischen Datenträgern, Flachbildschirmen und bei der Oberflächenbeschichtung von Werkstücken verwendet.

 

Produkt:

Nickel-Kupfer-Sputtertarget

Reinheit:

99.9%, 99.95%

Größe:

individuell

Form:

rund oder rechteckig

Technologie:

Vakuumschmelzen

Anwendung:

PVD-Beschichtungsindustrie

Verpackung:

Vakuumverpackung, Exportkarton oder Holzkiste

Verwandte Produkte:

NiFe, NiV, NiCu, NiCr, ZnAl, ZnSn, AlCu, AlSi, AlCr, TiAl, CoFe, CuCr, WTi, CoTaZr, CuNiMn usw.

 

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