PVD-Beschichtungsmaterial

• Bor (B) Sputtertarget

  Bor-Sputtertargets haben die gleichen Eigenschaften wie Bor. Bor ist ein chemisches Element, das aus dem arabischen „buraq“ stammt, dem Namen für Borax. „B“ ist das kanonische chemische Symbol für...

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• Sputtertarget aus Aluminiumzinkoxid (AZO)

  AZO-Target, vollständiger Name Zinkoxid-Aluminium-Target, ist ein spezielles dotiertes Halbleitermaterial. Genauer gesagt handelt es sich um ein Verbundmaterial aus Zinkoxid (ZnO) und Aluminium...

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• Sputtertarget aus Bariumtitanat (BaTiO3)

  Bariumtitanat ist ein kristalliner Feststoff, der in optoelektronischen Anwendungen und als dielektrische Keramik in Kondensatoren mit einer Dielektrizitätskonstante von bis zu 7,000 verwendet...

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• Bornitrid (BN) Sputtertarget

  Bornitrid (BN) ist ein Kristall, der aus Stickstoffatomen und Boratomen besteht. Es ist normalerweise schwarz, braun oder dunkelrot. Es hat eine Sphaleritstruktur, eine gute Wärmeleitfähigkeit und...

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• Borcarbid (B4C) Sputtertarget

  Borcarbid: Es wurde im 19. Jahrhundert als Nebenprodukt der Metallboridforschung entdeckt und erst in den 1830er Jahren wissenschaftlich untersucht. Es ist nach Bornitrid, Diamant,...

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• Sputtertarget aus Ceroxid (CeO2)

  Ceroxid ist eine anorganische Substanz mit der chemischen Formel CeO2, hellgelbes oder gelbbraunes Pulver. Dichte 7,13 g/cm3, Schmelzpunkt 2397 Grad, unlöslich in Wasser und Lauge, schwach löslich...

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• Sputtertarget aus Hafniumoxid (HfO2)

  Zirkonoxid (ZrO2), auch Zirkoniumdioxid genannt, ist ein sehr wichtiges Hochleistungskeramikmaterial. Aufgrund seines hohen Schmelzpunkts, seiner hohen Biegefestigkeit und chemischen Stabilität...

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• Indiumoxid (In2O3) Sputtertarget

  Indiumoxid ist ein Oxid mit der Molekülformel In2O3. Das reine Produkt ist ein weißes oder hellgelbes amorphes Pulver, das beim Erhitzen rötlich-braun wird. Indiumoxid ist ein neues transparentes...

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• Indiumzinnoxid (ITO) Sputtertarget

  ITO-Targetmaterial, Indiumzinnoxid, ist ein wichtiges transparentes leitfähiges Material. Im Bereich der Dünnschichtherstellung werden ITO-Targets häufig als Grundrohstoff in elektronischen und...

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• Siliziumoxid (SiO2) Sputtertarget

  Siliziumdioxid ist ein in der modernen Technologie weit verbreitetes Material und hat aufgrund seiner hervorragenden physikalischen und chemischen Eigenschaften große Aufmerksamkeit erhalten....

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• Indium-Gallium-Zinkoxid (IGZO) Sputtertarget

  Wir verarbeiten Indium-Gallium-Zinkoxid (IGZO)-Sputtertargets in hoher Qualität zu wettbewerbsfähigen Preisen. Das IGZO-Sputtertarget, dessen vollständiger Name Indium-Gallium-Zinkoxid-Target...

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• Sputtertarget aus Siliziumnitrid (Si3N4)

  Ein Siliziumnitrid-Sputtertarget ist eine Art Nitridkeramik-Sputtertarget. Si3N4 ist ein hochschmelzendes Keramikmaterial, das extrem hart und chemisch relativ inert ist. Si3N4 wird durch Erhitzen...

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