Produktbeschreibung
Wir verarbeiten Indium-Gallium-Zinkoxid (IGZO)-Sputtertargets in hoher Qualität zu wettbewerbsfähigen Preisen. Das IGZO-Sputtertarget, dessen vollständiger Name Indium-Gallium-Zinkoxid-Target lautet, enthält vier Elemente: Indium (In), Gallium (Ga), Zink (Zn) und Sauerstoff (O). IGZO ist ein neuer Typ Halbleitermaterial mit höherer Elektronenbeweglichkeit als amorphes Silizium (-Si). IGZO wird als Kanalmaterial in einer neuen Generation hochleistungsfähiger Dünnschichttransistoren (TFTs) verwendet, um die Auflösung von Anzeigetafeln zu verbessern und OLED-Fernseher mit großem Bildschirm zu ermöglichen.
Anwendung
IGZO-Sputtertargets werden für die Dünnschichtabscheidung verwendet, typischerweise für Brennstoffzellen, Dekorationen, Halbleiter, Displays, LED- und Photovoltaikgeräte, Glasbeschichtungen usw. Zu den Anwendungsgebieten von IGZO-Dünnschichten gehören transparente leitfähige Oxidschichten, LED-Displays, MEMS-Geräte usw.
Merkmale
Unsere Sputtertargets aus Indium-Gallium-Zinkoxid (IGZO) sind in verschiedenen Formen erhältlich, beispielsweise als Scheibe, Rechteck, Säule, Stufe und Sonderform. Der typische Durchmesser für runde Targets beträgt 1 Zoll, 2 Zoll, 3 Zoll, 4 Zoll oder 50mm, 60mm, 80mm, 100mm usw. Die typische Dicke beträgt 0,125 Zoll und 0,25 Zoll oder 3mm, 4mm, 5mm, 6mm usw.
Unsere Sputtertargets können auf Wunsch mit einer Kupferträgerplatte verbunden werden. Für Sputtertargets aus Indium-Gallium-Zinkoxid (IGZO) können auch unterschiedliche Reinheitsgrade, Formen und Größen maßgeschneidert werden. Sie können uns Ihre Anfrage für ein Angebot senden.
Von der Auswahl der Rohmaterialien bis hin zur Kontrolle von Temperatur, Druck und Zeit des Heißpresssinterns befolgen wir strikt den spezifischen Produktionsprozess. Daher weisen die fertigen Keramik-Sputtertargets die Eigenschaften hoher Reinheit, hoher Dichte und gleichmäßiger Oberflächenfarbe ohne Flecken und Risse auf. Der Endbenutzer kann beim PVD-Prozess konstante Erosionsraten und hochreine und homogene Dünnfilme erzielen.
Indium-Gallium-Zinkoxid-Sputtertarget
Reinheit: 99,99 %;
Herstellungsverfahren: Heißpresssintern
Verfügbare Abmessungen:
Rund: Durchmesser=1", 2", 3" und 4", andere Größen können angepasst werden
Rechteckig: Länge=3mm und 6mm
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