Produktbeschreibung
Ein Siliziumnitrid-Sputtertarget ist eine Art Nitridkeramik-Sputtertarget. Si3N4 ist ein hochschmelzendes Keramikmaterial, das extrem hart und chemisch relativ inert ist. Si3N4 wird durch Erhitzen von Siliziumpulver auf 1300 bis 1400 Grad in einer Stickstoffatmosphäre hergestellt. Anschließend kann das Siliziumnitridpulver in die gewünschte Form gesintert werden. Ein Siliziumnitrid-Sputtertarget wird für die Dünnschichtabscheidung verwendet.
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Produktname |
Siliziumnitrid-Sputtertarget |
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Verfügbare Reinheit |
99,9 % min., auf Anfrage |
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Verfügbare Form |
rund, rechteckig, Pellets |
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Größe |
Verhandelbar |
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Technologie |
Pulvermetallurgie |
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Anwendung |
Vakuumbeschichtung, Prozess, Dekoration, LED, Semi, |
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Ähnliche Produkte |
ZrO2.SiN,LaB6,Cr2O3,C,B usw. |
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