Borcarbid (B4C) Sputtertarget
Borcarbid (B4C) Sputtertarget

Borcarbid (B4C) Sputtertarget

Borcarbid: Es wurde im 19. Jahrhundert als Nebenprodukt der Metallboridforschung entdeckt und erst in den 1830er Jahren wissenschaftlich untersucht. Es ist nach Bornitrid, Diamant, Fullerenverbindungen und Diamantmonolithen die fünfthärteste bekannte Substanz.
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Produktbeschreibung

 

Borcarbid: Es wurde im 19. Jahrhundert als Nebenprodukt der Metallboridforschung entdeckt und erst in den 1830er Jahren wissenschaftlich untersucht. Es ist nach Bornitrid, Diamant, Fullerenverbindungen und Diamantmonolithen die fünfthärteste bekannte Substanz.

 

Hinweise zur Handhabung von Borcarbid-Sputtertargets

 

  1. Für dieses Material wird Indiumbindung empfohlen, da einige seiner Eigenschaften, wie Sprödigkeit, geringe Wärmeleitfähigkeit usw., das Sputtern behindern.
  2. Borcarbid-Sputtertargets haben eine geringe Wärmeleitfähigkeit und sind anfällig für Thermoschocks.

 

Anwendung von Borcarbid-Sputtertargets

 

Das Borcarbid-Sputtertarget wird für Dünnschichtabscheidung, Dekoration, Halbleiter, Displays, LED- und Photovoltaikgeräte, Funktionsbeschichtungen sowie andere Bereiche der optischen Informationsspeicherung, Glasbeschichtungsindustrie wie Autoglas und Architekturglas, optische Kommunikation usw. verwendet.

 

B4C Sputtertarget Borcarbid Sputtertarget

Produkt:

B4C Borcarbid Sputtertarget

Reinheit:

99.50%

Größe:

individuell

Form:

rund oder rechteckig

Technologie:

Heisse Presse

Anwendung:

PVD-Beschichtungsindustrie

Verpackung:

Vakuumverpackung, Exportkarton oder Holzkiste außen

Verwandte Produkte:

ZnO, TiO2, AZO, ITO, Al2O3, Ta2O5, Nb2O5, HfO2, ZrO2, MoS2, WS2, MoO3, WO3 usw.

 

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