Sputtertarget aus Aluminiumoxid (Al2O3)
Sputtertarget aus Aluminiumoxid (Al2O3)

Sputtertarget aus Aluminiumoxid (Al2O3)

Aluminiumoxid-Zielmaterial, dieses hochreine, hochdichte Keramikmaterial, weist nicht nur eine ausgezeichnete Stabilität auf, sondern kann auch extremen thermischen Umgebungen standhalten. Es spielt eine entscheidende Rolle in Bereichen wie Mikroelektronik, Präzisionsoptik und Oberflächentechnik.
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Produktbeschreibung

 

Aluminiumoxid-Zielmaterial, dieses hochreine, hochdichte Keramikmaterial, weist nicht nur eine ausgezeichnete Stabilität auf, sondern kann auch extremen thermischen Umgebungen standhalten. Es spielt eine entscheidende Rolle in Bereichen wie Mikroelektronik, Präzisionsoptik und Oberflächentechnik.

 

Anwendungsbereiche

 

Halbleiterherstellung: Wird zur Herstellung von Isolier- und Leitschichten in integrierten Schaltkreisen verwendet, was für die Verbesserung der Chipleistung entscheidend ist.

Optische Beschichtungen: werden zur Herstellung von Reflektoren und Schutzbeschichtungen verwendet, um die Haltbarkeit und Leistung optischer Geräte zu verbessern.

Oberflächentechnik: Wird bei Industriemessern und mechanischen Teilen verwendet, um die Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit zu verbessern.

 

Spezifische Anwendungskomponenten

 

Mikroelektronische Geräte: wie Isolierschichten in Transistoren und Kondensatoren, um einen stabilen Betrieb elektronischer Geräte zu gewährleisten.

Optische Komponenten: wie etwa Reflektoren in Kameraobjektiven und Teleskopen zur Verbesserung der Bildqualität.

Hartbeschichtungen: werden in Industrieklingen und Bohrern verwendet, um deren Lebensdauer zu verlängern.

 

Spezifikation

 

Produkt:

Al2O3-Aluminiumoxid-Sputtertarget

Reinheit:

99.99%

Größe:

individuell

Form:

rund oder rechteckig

Technologie:

Heißpressen

Anwendung:

PVD-Beschichtungsindustrie

Verpackung:

Vakuumverpackung, Exportkarton oder Holzkiste außen

 

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