Kobalt-Sputtertarget

Kobalt ist ein sprödes, hartes Metall, das in seinem Aussehen Eisen und Nickel ähnelt. Seine metallische Permeabilität beträgt etwa zwei Drittel der von Eisen. Kobalt neigt dazu, über einen weiten Temperaturbereich als Mischung zweier Allotrope vorzuliegen. Die Umwandlung ist träge und erklärt teilweise die große Schwankung der gemeldeten Daten zu den physikalischen Eigenschaften von Kobalt.

Schmelzpunkt: 1495 Grad Siedepunkt: 2927 Grad

Ein Sputtertarget ist eine Scheibe aus hochreinem Material, die als Atomsputterquelle für Ionenstrahlbeschuss verwendet wird. Bitte kontaktieren Sie uns, wenn die von Ihnen benötigte Sputtertargetgröße und/oder Reinheit nicht aufgeführt ist.

Sputtern ist eine weit verbreitete Methode zur Dünnschichtabscheidung. Dabei handelt es sich um ein PVD-Verfahren (Physical Vapor Deposition), bei dem Atome aus einem festen Zielmaterial herausgeschleudert werden, indem das Ziel mit energiereichen Teilchen bombardiert wird.

Bei einem Kobalt-Sputtertarget wird hochreines Kobalt als Targetmaterial verwendet. Der Prozess beginnt mit der Erzeugung eines Plasmas in der Sputterkammer, üblicherweise mit Argongas. Ionen aus dem Plasma werden mit ausreichender Energie auf das Kobalttarget beschleunigt, um Kobaltatome von der Targetoberfläche abzulösen. Beim Ausstoßen dieser Kobaltatome wandern sie durch die Vakuumkammer und lagern sich auf einem Substrat ab, wo sie einen dünnen Film mit den gewünschten Eigenschaften bilden. Die Sputterbedingungen, einschließlich der auf das Target angewendeten Leistung, des Vakuumniveaus und der Gaszusammensetzung, werden sorgfältig kontrolliert, um die erforderlichen Filmeigenschaften wie Dicke, Gleichmäßigkeit und Kristallstruktur zu erreichen.

Durch Sputtern hergestellte Dünnschichtbeschichtungen aus Kobalt (Co) sind aufgrund der magnetischen Eigenschaften, Verschleißfestigkeit und chemischen Stabilität von Kobalt in verschiedenen Bereichen unverzichtbar. Diese Schichten werden vorwiegend in der Datenspeicherindustrie für magnetische Aufzeichnungsmedien verwendet. Sie finden auch Anwendung in der Elektronikindustrie zur Herstellung von Magnetsensoren, induktiven Komponenten und mikroelektromechanischen Systemen.

Cobalt Target Sputtertargets bestehen aus hochreinen Metallen 99,99% Kobalt

Standarddicke 0,1 mm (100µm) Andere Dicken auf Anfrage erhältlich

Verfügbare Durchmesser Ø 20,0 mm, 20,4 mm, 32 mm, 39 mm, 42 mm, 50 mm, 50,8 mm, 54 mm, 57 mm, 60 mm, 63,5 mm, 75 mm, 76 mm.

Beliebte label: Kobalt-Sputtertarget, China Kobalt-Sputtertarget-Lieferanten, Fabrik