Vanadium (V) Sputtertarget

Vanadium-Sputtertargets haben dieselben Eigenschaften wie ihr Ausgangsmaterial. Vanadium ist ein chemisches Element mit dem Symbol V und der Ordnungszahl 23. Es ist ein hartes, silbergraues, dehnbares und formbares Übergangsmetall. Das elementare Metall kommt in der Natur selten vor, aber wenn es künstlich isoliert wird, stabilisiert die Bildung einer Oxidschicht (Passivierung) das freie Metall gewissermaßen gegen weitere Oxidation. Vanadium ist elektrisch leitfähig und wärmeisolierend und härter als die meisten Metalle und Stahl. Es ist gut korrosionsbeständig und stabil gegenüber Basen sowie Schwefel- und Salzsäure. Es wird in Luft bei etwa 933 K (660 Grad, 1220 Grad F) oxidiert, obwohl sich sogar bei Raumtemperatur eine Oxidpassivierungsschicht bildet.

Vanadium-Sputtertargets werden durch Schmelztechnologie hergestellt. Da Vanadiumoxid sehr spezielle optische und elektrische Eigenschaften besitzt, kann es für intelligente Infrarotfenster, elektrooptische Schaltgeräte und als Laserschutz- und Tarnmaterial verwendet werden. Mit einer Reinheit von bis zu 3N und einer speziellen Glühbehandlung, gleichmäßiger Korngröße sowie einem geringeren Gasgehalt kann der Endverbraucher während des PVD-Prozesses konstante Erosionsraten und eine hochreine und homogene Dünnschichtbeschichtung erzielen.

NiV7 Sputtertarget

CoFeV-Sputtertarget

FeV-Sputtertarget

VCr-Sputtertarget

VTiZr-Sputtertarget

V2O5 Sputtertarget

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