Produktbeschreibung
Hafnium-Sputtertargets haben die gleiche Leistung wie metallisches Hafnium (Hf). Hafnium hat einen Schmelzpunkt von 2233 Grad, einen Siedepunkt von 4603 Grad und eine Dichte von 13,31 g/cm3. Es ist ein glänzendes silbergraues Übergangsmetall. Metallisches Hafnium hat eine mäßige Festigkeit, gute Korrosionsbeständigkeit und eine hohe Neutronenabsorptionskapazität. Es wird häufig in der Atomenergieindustrie verwendet. Hafnium kann eine Vielzahl von Legierungen bilden und kann auch als Oberflächenbeschichtung für unedle Metalle verwendet werden. Wir können importiertes hochreines Hafnium mit niedrigem Zirkoniumgehalt liefern, das zu Targets und Partikeln verarbeitet werden kann.
Anwendung von Hafnium-Sputtertargets
Durch Einbringen des Sauerstoffpartialdrucks kann der Hafniumoxidfilm durch elektrisches Sputtern oder reaktives Sputtern mit Hafnium-Sputtertargets hergestellt werden. Der resultierende Dünnfilm kann in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden, darunter optische Beschichtungen für die Photonik, Dünnfilmbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit, Nuklearprodukte, Gate-Isolatoren in integrierten Schaltkreisen und Sensoren.
Hafnium (Hf) Spezifikationen
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Materialtyp |
Hafnium |
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Symbol |
Hf |
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Atomares Gewicht |
178.49 |
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Ordnungszahl |
72 |
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Farbe/Aussehen |
Grauer Stahl, Metallic |
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Wärmeleitfähigkeit |
23 W/m.K |
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Schmelzpunkt (Grad) |
2,227 |
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Der Wärmeausdehnungskoeffizient |
5.9 x 10-6/K |
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