Produktbeschreibung
Ionenimplantation ist eine sehr wichtige Technologie in der modernen IC-Herstellung, bei der Ionenimplantatoren zum Dotieren von Halbleitern verwendet werden, d. h. Wolfram-Thorium-Drähte als Kathoden werden verwendet, um Elektronen auszusenden und Gasmoleküle mit bestimmten Verunreinigungselementen zu bombardieren. Dies führt zu ionisierten, bestimmten Verunreinigungsatomen, die durch elektrostatische Felder auf die Oberfläche von Silizium-Einkristall-Wafer und in den Halbleiter beschleunigt werden, wodurch die Leitfähigkeitseigenschaften verändert werden und schließlich Transistorstrukturen entstehen. Der Ioneninjektor besteht aus einem Gassystem, einem Vakuumsystem, einem Motorsystem, einem Steuersystem und einem Strahlführungssystem.
Das Strahlliniensystem umfasst die Ionenquelle, die Extraktionselektrode, das Massenspektrometer, den Back-End-Beschleuniger, das Ladungsneutralisationssystem, den Wafer-Handler und den Strahlblocker. Wolframgeräte aus dicken (2–45 mm) Wolframplatten werden hauptsächlich im Ionenquellensystem von Halbleiter-Ionenimplantierern verwendet, um ionisierende Strahlen einzuschließen und abzuschirmen. Sie sind die Schlüsselkomponenten des Ionenquellensystems.
Merkmale
Die Reinheit des Molybdän-Wellenleiters liegt über 99,95 %;
Seine Dichte ist höher als 10,2 g/cm³;
Präzise bearbeitet und mit ausgezeichneter Oberflächenrauheit;
Molybdän-Wellenleiter weisen eine hohe Verschleißfestigkeit auf.
Anwendungsindustrie
Halbleiterindustrie
Seetransportindustrie
Optische und optoelektronische Industrie
Luft- und Raumfahrtindustrie
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