Reines Titan -Sputterziel

Reines Titan -Sputterziel

Das reine Titan -Sputter -Ziel wird aus reinem Titan in Reinheit von 99,5% auf 99,9999% gemacht. Gegenwärtig ist die Reinheit von Titan für das 4- Megabit VLSI erforderlich, um 4n5 (99,995%) ~ 5n (99,999%) zu erreichen, während das {16- Megabit-VLSI die Reinheit des Titaniums verlangt, 6n (99,9999%) Level zu erreichen.

Wir stellen auch das Metallziel und das Verdunstungsmaterial für hohe Reinheit von 99,9999%, Edelmetallziel (Au, AG, PT), Zielbindungsservice, Tiegel -Liner (Kupfer, Molybdän, Wolfram usw.) zur Verfügung.

Das reine Titan-Sputter-Ziel hat eine hervorragende atmosphärische Korrosionsbeständigkeit und verändert die Farbe nach langfristiger Verwendung in der Atmosphäre nicht, um die ursprüngliche Farbe von Titan zu gewährleisten. Daher kann hochpuriges Titanium auch als Gebäudedekorationsmaterial verwendet werden.

Darüber hinaus bestehen in den letzten Jahren einige High-End-Dekorationen und einige Tragen von Artikeln wie Armbändern, Uhren und Spektakelrahmen aus Titan, das die Eigenschaften der Korrosionsbeständigkeit, der Verfärbung, der langfristigen Aufrechterhaltung eines guten Glanzes und der Nicht-Sensibilisierung mit menschlicher Haut verwendet. Die Reinheit des Titans, das in einigen Dekorationen verwendet wird, hat das 5N -Niveau erreicht.

Spezifikation des reinen Titan -Sputterziels

Bild von reinem Titan -Sputterziel

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