Metal Titanium Ziel
Das Metall -Titan -Ziel wird hauptsächlich mit der Elektronenstrahlkühlungsmethode hergestellt. Es hat eine hohe Reinheit, eine hohe spezifische Stärke, eine gute Zähigkeit in einer sauerstofffreien Umgebung, eine starke Schweiß- und Verarbeitungsleistung, gute Duktilität, herausragende thermische Leitfähigkeit, Verschleißfestigkeit und Biokompatibilität. Es verfügt über hervorragende Eigenschaften wie einen guten Widerstand, eine Qualität mit hoher Beschichtung, eine lange Lebensdauer und nichtmagnetische Eigenschaften.
Das Metall-Titan-Ziel wird hauptsächlich zur Herstellung von Materialien in High-Tech-Feldern wie Halbleitern, Optoelektronik und magnetischen Materialien verwendet. In der Halbleiterindustrie werden sie beispielsweise zur Herstellung elektronischer Komponenten wie Fotodioden, Phototransistoren, Fotoreceivers und Emitter verwendet.
Darüber hinaus wird das Metall-Titan-Ziel auch in Hochtemperaturlegierungen, leitfähigen Materialien, chemischen Katalysatoren, Luft- und Raumfahrtkomponenten und medizinischen Geräten häufig verwendet.
Spezifikation des Metall -Titan -Ziels
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Grad |
Klasse 1, Klasse 2 |
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Technik |
Sintern, Schmieden, Glühen, Rollen, Vakuumschmelzen, Bearbeitung |
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Reinheit |
99.9%-99.995% |
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Durchmesser |
Angepasst |
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Dicke |
Angepasst |
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Größe für Bar |
Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1mm) |
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Größe für Rohr |
Rohr (Rotory Target, OD: 20mm -160 mm, Dicke: 2-20 mm) |
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Dichte |
4,5 g/cm3 |
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Oberfläche |
Poliert, hell, chemisches Reinigung, Schwarzoxid usw. |
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Form |
Scheibe, Platte, rechteckig, quadratisch, Säulenziele, |
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Standard |
ASTM B385, GB, JIS |
Bild von Metal Titaniumziel
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