99,99% reine Titanziele
Reinheit ist einer der wichtigsten Leistungsindikatoren für die Auswahl von Zielmaterialien, die einen großen Einfluss auf die Leistung des Sputterfilms haben und auch Probleme wie abnormale Entladung oder Partikeldefekte während des Sputternprozesses vermeiden können.
99,99% reine Titanziele haben nicht nur die Vorteile von hoher Reinheit, guter Verschleißfestigkeit, langer Lebensdauer und hoher Beschichtungsqualität, sondern auch alle hervorragenden Merkmale von Titan, wie z.
99,99% reine Titanziele haben im Allgemeinen zwei Arten von runden Zielen und Plattenzielen, die für Anwendungen in der Halbleiterindustrie, der Display -Industrie für Flachwaffen, der Speicherung von Informationszellen und Solarzellen und anderen Feldern sehr geeignet sind.
Der dünne Film aus 99,99% reinen Titanzielen ist eines der in VLSI-Chips üblicherweise verwendeten Barrierfilmmaterialien, die eine hohe Dichte und eine zuverlässige Verbindung zwischen Chips und Chips und Substraten realisieren können.
Spezifikation von 99,99% reinen Titanzielen
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Grad |
GR2 GR5 GR7 GR11 GR23 |
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Technik |
Sintern, Schmieden, Glühen, Rollen, Vakuumschmelzen, Bearbeitung |
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Reinheit |
99.99% |
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Durchmesser |
Angepasst |
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Dicke |
Angepasst |
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Größe |
Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1mm) |
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Rohr (Rotory Target, OD: 20mm -160 mm, Dicke: 2-20 mm) |
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Dichte |
4,52G\/cm3 |
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Oberfläche |
Polieren, helle, chemische Reinigung, Schwarzoxid usw. |
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Form |
Scheibe, Platte, rechteckig, quadratisch |
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Standard |
ASTM B385, GB |


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