Wolfram-Titanlegierung ist ein aus den Übergangsmetallen Wolfram und Titan legiertes Material. Es verfügt über eine noch höhere Dichte und Reinheit, eine bessere Korrosionsbeständigkeit und eine geringere Volumenausdehnung, was die Partikelbildung während der Herstellung effektiv reduziert und die Herstellung hochwertiger Dünnfilme erfolgreich macht.
Targets aus Wolfram-Titanlegierungen werden mithilfe der Pulvermetallurgietechnologie hergestellt und werden häufig in Halbleitern und Dünnschichtsolarzellen eingesetzt. In Halbleiteranwendungen dienen 10 Gew.-% WTi-Dünnfilme als Diffusionsbarrieren und Haftschichten, um Metallisierungsschichten von Halbleitern zu trennen, beispielsweise um Aluminium von Silizium oder Kupfer von Silizium zu trennen. Dadurch wird die Funktionalität von Halbleitern in Mikrochips deutlich verbessert. In Dünnschichtsolarzellen dienen 10 Gew.-% WTi-Filme auch als Barriereschicht, um zu verhindern, dass Eisenatome aus dem Stahlsubstrat in den Molybdän-Rückkontakt und CIGS-Halbleiter diffundieren. Targets aus Wolfram-Titanlegierungen werden auch in LEDs und Werkzeugbeschichtungen verwendet.
Der Hauptgrund für die Wahl von Targets aus Wolfram-Titanlegierungen als Diffusionsbarrieren und Verbindungsschichten in neuen Halbleiterchips ist die hervorragende Oberflächenhaftung und Wärmeableitung der Legierung, was zu Produkten mit höherer Gesamtleistung führt.
Vorbereitungsmethode für Wolfram-Titan-Target
1. Nehmen Sie eine bestimmte Menge Wolframpulver und Titanpulver und mischen Sie diese gleichmäßig unter einer inerten Atmosphäre.
2. Verwenden Sie eine mechanische Presse oder eine kaltisostatische Presse, um die resultierende Mischung zu einem Block zu pressen.
3. Legen Sie den resultierenden Barren zum Verdichten und Sintern in einen Vakuumsinterofen.
4. Nachdem Sie das in Schritt 3 gesinterte Wolfram--Titanmaterial abgekühlt haben, schmelzen Sie es in einem nicht verbrauchbaren Vakuum-Lichtbogenofen, um das Produkt zu erhalten.
Vorteile von Wolfram-Titan-Targets
1. Einfacher Produktionsprozess und einfache Bedienung.
2. Durch die Verwendung einer Wolfram-Titan-Pulvermischung, gefolgt von Pressen, Sintern und Lichtbogenschmelzen, bewältigt dieser Prozess effektiv die Herausforderungen hinsichtlich der geringen Effizienz, der Materialgleichmäßigkeit und des Verunreinigungsgehalts bei der herkömmlichen Herstellung von Wolfram-Titan-Legierungen.
Our factory can produce WTi 90/10wt% and WTi 85/15wt% targets, and can also customize targets with special compositions. The actual target density is >99 % und die durchschnittliche Korngröße beträgt<100μm. With purity up to 4N5 and special annealing treatment, uniform grain size and low gas content, end users can obtain constant etching rates as well as high-purity and uniform thin film coatings during the PVD process.
